集成電路用超純水設備【武漢純水設備】

在超大規模集成電路的超純水系統中，水質的主要指標為：電阻率、微粒、TOC(總有機硅)、堿土金屬、重金屬、溶解氧等。在制造過程中，與硅片接觸的水所含離子越多，對產品良品率影響就越大。

電阻率反映了超純水中離子的含量，超純水的電阻率越高，離子含量越低，其純度也就越高。一般來講，在25℃時，理論純水的最高電阻率是18.25MΩ·cm。

集成電路的超純水制備系統應根據原水水質及生產工藝所需水質來確定，一般采用預處理裝置、反滲透裝置、EDI模塊、后處理系統。

預處理裝置可有效去除水中所含的懸浮物、膠體、高分子有機物等雜質。活性炭對去除TOC有非常好的效果，為防止微生物滋生，應將活性炭的進水調成酸性。

反滲透裝置對預處理的出水進一步進行處理，去除殘留的TOC。

EDI模塊可連續不間斷產出純水，進一步提高且穩定產水水質。

后處理系統裝置主要有混合離子交換、UV(紫外線)、一級拋光等。混合離子交換可去除殘留下來的TOC和SiO2；UV用來去除純水中的細菌、微生物；一級拋光采用高純樹脂，用來處理金屬離子。武漢反滲透純水設備武漢EDI超純水處理設備 武漢工業純水設備 武漢實驗室超純水設備 武漢純化水設備